光刻膠的去除在IC制造工藝流程中占非常重要的地位,其成本約占IC制造工藝的20-30%,光刻膠去膠效果太弱影響生產(chǎn)效率,去膠效果太強(qiáng)容易造成基底損傷,影響整個(gè)產(chǎn)品的成品率。傳統(tǒng)主流去膠方法采用濕法去膠,成本低效率高,但隨著技術(shù)不斷選代更新,越來(lái)越多IC制造商開(kāi)始采用干法式去膠,干法式去膠工藝不同于傳統(tǒng)的濕法式去膠工藝,它不需要浸泡化學(xué)溶劑,也不用烘干,去膠過(guò)程更容易控制,避免過(guò)多算上基底,提高產(chǎn)品成品率。干法式去膠又被稱(chēng)為等離子去膠,其原理同等離子清洗類(lèi)似,主要通過(guò)氧原子核和光刻膠在等離子體環(huán)境中發(fā)生反應(yīng)來(lái)去除光刻膠,由于光刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C(jī)物,在射頻或微波作用下,氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通過(guò)泵被真空抽走,完成光刻膠的去除。等離子物理去膠過(guò)程:主要是物理作用對(duì)清洗物件進(jìn)行轟擊達(dá)到去膠的目的,主要的氣體為氧氣、氬氣等,通過(guò)射頻產(chǎn)生氧離子,轟擊清洗物件,以獲得表面光滑的較大化,并且結(jié)果是親水性增**氣等離子適用于各種平面材料的表面清洗活化,可搭配直噴或旋轉(zhuǎn)噴頭。重慶低溫等離子清洗機(jī)廠(chǎng)商
在材料科學(xué)領(lǐng)域,聚丙烯(PP)是一種普遍使用的工程塑料,提升其性能一直是研究的重點(diǎn)。由于PP具有優(yōu)異的物理和機(jī)械特性以及良好的加工性能,因此在包裝、汽車(chē)、家電等多個(gè)行業(yè)得到了廣泛應(yīng)用。然而,PP的表面能較低,使其在粘附、潤(rùn)濕和涂覆性能方面表現(xiàn)不佳,限制了其應(yīng)用領(lǐng)域。為了解決這一問(wèn)題研究人員采用了等離子清洗機(jī)明顯提升了PP材料的活性。等離子清洗機(jī)增強(qiáng)PP材料聚丙烯材料的活性特性主要通過(guò)以下幾個(gè)關(guān)鍵途徑:改變表面結(jié)構(gòu):等離子體中的高能粒子轟擊PP材料表面,使其表面微觀(guān)結(jié)構(gòu)發(fā)生變化,增加表面粗糙度和比表面積,有利于后續(xù)的加工處理中與其他物質(zhì)更好地結(jié)合,例如在粘接工藝中,粗糙表面能提供更多的機(jī)械嵌合位點(diǎn),增強(qiáng)粘接強(qiáng)度。例如,表面粗糙度可能從原來(lái)的微觀(guān)平滑狀態(tài)提升數(shù)倍甚至更高,具體數(shù)值因處理?xiàng)l件而異。天津plasma等離子清洗機(jī)技術(shù)參數(shù)等離子體處理可以解決TPE噴漆附著困難的問(wèn)題。
大氣射流等離子清洗機(jī)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,安裝方便,可對(duì)塑料、橡膠、金屬、玻璃、陶瓷、紙質(zhì)等材料進(jìn)行表面處理,已經(jīng)廣泛應(yīng)用于印刷、包裝、電子、汽車(chē)等行業(yè)。大氣射流等離子清洗機(jī)分為大氣射流直噴式等離子清洗機(jī)和大氣射流旋轉(zhuǎn)式等離子清洗機(jī)。大氣射流直噴式等離子清洗機(jī)射出的等離子體能量集中,溫度偏高,比較適合處理點(diǎn)狀和線(xiàn)狀,對(duì)溫度不是非常敏感的材料表面,根據(jù)其噴頭大小可以處理的寬度為2-15mm。大氣射流旋轉(zhuǎn)式等離子清洗機(jī)射出的等離子體比較分散,溫度適中,比較適合處理面狀,對(duì)溫度有點(diǎn)敏感的材料表面,根據(jù)其旋轉(zhuǎn)噴頭大小可以處理的寬度為20-90mm。
等離子清洗機(jī)(plasmacleaner)是高科技的一款表面處理設(shè)備,通過(guò)等離子體來(lái)達(dá)到表面處理的作用;獲得清洗、活化、刻蝕、涂層等多方向的應(yīng)用,解決各種行業(yè)的表面處理難題。1、等離子清洗機(jī)原理密閉的反應(yīng)腔體(真空室、真空腔體)被真空泵不斷抽氣,從1個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下降到設(shè)定的壓力值并維持真空度;通入氬、氫、氮?dú)獾裙に嚉怏w,啟動(dòng)等離子發(fā)生器,讓反應(yīng)腔體內(nèi)電極之間產(chǎn)生高壓交變電場(chǎng),使得自由電子能量加速,去激發(fā)工藝氣體分子形成等離子體,具有高反應(yīng)活性或高能量的等離子體,會(huì)與有機(jī)污染物及微顆粒污染物反應(yīng)、碰撞形成各種揮發(fā)性物質(zhì),這些揮發(fā)性物質(zhì)伴隨工藝氣流由真空泵抽取出去,從而達(dá)到被處理對(duì)象表面清潔、活化等目的。等離子清洗機(jī)對(duì)所處理的材料無(wú)嚴(yán)格要求,無(wú)論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物,都能進(jìn)行良好的處理。
等離子體作為物質(zhì)的第四種形態(tài),立于固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)之外。當(dāng)氣體被加熱至高溫狀態(tài)時(shí),分子會(huì)裂解為陽(yáng)離子和游離的電子,進(jìn)而形成一種帶電的氣體狀態(tài)。等離子體具備極高的能量與反應(yīng)活性,能夠在相對(duì)較低的溫度下與物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),正因如此,它在眾多工業(yè)領(lǐng)域中得以廣泛應(yīng)用。清洗原理大氣等離子清洗機(jī)主要是通過(guò)將氣體(通常為空氣或者氮?dú)猓┮敫哳l電場(chǎng)來(lái)促使等離子體的生成。這種等離子體能夠產(chǎn)生大量的活性物質(zhì),例如活性氧、氫原子以及其他自由基等。這些活性物質(zhì)能夠切實(shí)有效地處理材料表面的污染物,像油脂、灰塵以及有機(jī)物等。整個(gè)清洗過(guò)程無(wú)需借助化學(xué)溶劑,既實(shí)現(xiàn)了對(duì)環(huán)境的保護(hù),又規(guī)避了化學(xué)藥劑可能對(duì)物品造成的損害。等離子清洗機(jī)用于汽車(chē)、芯片制造、顯示等行業(yè)。遼寧真空等離子清洗機(jī)服務(wù)電話(huà)
封裝過(guò)程中的污染物,可以通過(guò)等離子清洗機(jī)處理。重慶低溫等離子清洗機(jī)廠(chǎng)商
等離子清洗是一種環(huán)保工藝,由于采用電能催化反應(yīng),同時(shí)利用低溫等離子體的特性,可以提供一個(gè)低溫環(huán)境,排除了濕式化學(xué)清洗所產(chǎn)生的危險(xiǎn)和廢液,安全、可靠、環(huán)保。與傳統(tǒng)的溶劑清洗不同,等離子清洗無(wú)需水及溶劑添加,依靠等離子體的“活化作用”達(dá)到清洗材料表面的目的,清洗效果徹底并保證材料的表面及本體特性不受影響。等離子清洗技術(shù)容易實(shí)現(xiàn)智能化控制,可裝配高精度的控制裝置,控制時(shí)間,及等離子強(qiáng)度。更重要的是,等離子清洗技術(shù)不分處理對(duì)象的材料類(lèi)型,對(duì)半導(dǎo)體、金屬和大多數(shù)高分子材料均有很好的處理效果,可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的精密清洗。重慶低溫等離子清洗機(jī)廠(chǎng)商