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來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-10-18

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優(yōu)化鍍膜過(guò)程的溫度、壓力和時(shí)間控制:溫度對(duì)于材料的蒸發(fā)率和沉積速率有明顯影響,精確的溫度控制可以?xún)?yōu)化膜層的均勻性和附著力。在真空環(huán)境中,控制適當(dāng)?shù)膲毫κ谴_保蒸發(fā)材料以適當(dāng)速率沉積的關(guān)鍵。改進(jìn)真空真空鍍膜機(jī)的鍍膜速度:可以通過(guò)提高真空度、使用高功率蒸發(fā)源、優(yōu)化蒸發(fā)工藝、采用多個(gè)蒸發(fā)源、使用新型材料和增加基底加熱等方式來(lái)提升鍍膜速度。優(yōu)化設(shè)備結(jié)構(gòu)和自動(dòng)化控制:對(duì)真空鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì),解決影響光學(xué)薄膜質(zhì)量和超多層精密光學(xué)薄膜鍍制的問(wèn)題,提高薄膜的監(jiān)控精度,實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的自動(dòng)控制,提高生產(chǎn)效率,降低生產(chǎn)成本。江蘇五金真空鍍膜機(jī)品牌寶來(lái)利3D鏡頭真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,細(xì)膩有光澤,有需要可以來(lái)咨詢(xún)!

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本實(shí)用新型涉及真空設(shè)備領(lǐng)域,尤其涉及一種真空反應(yīng)腔室和真空鍍膜設(shè)備。背景技術(shù):目前,真空設(shè)備,例如,pecvd(plasmaenhancedchemicalvaporde****ition,等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)和pvd(physicalvaporde****ition,物寶來(lái)利相沉積)設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于各種產(chǎn)品的生產(chǎn)過(guò)程中,如光伏電池、半導(dǎo)體器件等等。真空設(shè)備中(如pecvd設(shè)備、pvd設(shè)備)的寶來(lái)利真空反應(yīng)室通常為單個(gè)反應(yīng)腔室,傳動(dòng)部件和升降部件等機(jī)械模塊部件以及濺射靶材等工藝模塊部件均設(shè)置于該單個(gè)反應(yīng)腔室內(nèi),這就造成反應(yīng)腔室內(nèi)的工藝環(huán)境不夠封閉,容易造成工藝環(huán)境污染。另外,設(shè)置單個(gè)反應(yīng)腔室時(shí),由于工藝反應(yīng)區(qū)域較大,容易造成工藝所需原料的浪費(fèi),同時(shí),還會(huì)造成工藝反應(yīng)過(guò)程中溫度波動(dòng)大,不可控因素較多,從而影響工藝過(guò)程。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本實(shí)用新型的寶來(lái)利真空目的在于提供一種真空反應(yīng)腔室,以解決現(xiàn)有真空設(shè)備中由于只設(shè)置一個(gè)反應(yīng)腔室造成的工藝環(huán)境易被污染、工藝原料易被浪費(fèi)、環(huán)境溫度可控性低等問(wèn)題。本實(shí)用新型的第二目的在于提供一種包含本實(shí)用新型真空反應(yīng)腔室的真空鍍膜設(shè)備。為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下:一種真空反應(yīng)腔室,包括:用于提供真空環(huán)境的外腔體。

所描述的實(shí)施例是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的真空反應(yīng)腔室,其結(jié)構(gòu)如圖1和圖2所示,包括:用于提供真空環(huán)境的外腔體10,以及位于所述外腔體10內(nèi)的用于進(jìn)行工藝反應(yīng)的內(nèi)反應(yīng)腔20;所述內(nèi)反應(yīng)腔20的側(cè)壁上設(shè)有自動(dòng)門(mén)23,所述自動(dòng)門(mén)23連接自動(dòng)門(mén)控制器,工件自所述外腔體10經(jīng)所述自動(dòng)門(mén)23進(jìn)入所述內(nèi)反應(yīng)腔20中。本實(shí)施方式提供的真空反應(yīng)腔室,外腔室和內(nèi)反應(yīng)腔20為嵌套結(jié)構(gòu),其內(nèi)反應(yīng)腔20位于外腔室內(nèi)。該結(jié)構(gòu)中,相當(dāng)于設(shè)置了兩個(gè)腔室,其中外腔體10用于隔絕大氣,提供真空環(huán)境,而內(nèi)反應(yīng)腔20中的區(qū)域?yàn)楣に嚪磻?yīng)區(qū),形成相對(duì)封閉的工藝環(huán)境,相關(guān)工藝反應(yīng)在內(nèi)反應(yīng)腔20中進(jìn)行。由于采用雙腔室結(jié)構(gòu),可以將工藝模塊部件設(shè)置于內(nèi)反應(yīng)腔20中,而與工藝反應(yīng)無(wú)直接關(guān)系的機(jī)械模塊部件則被設(shè)置于外腔室中。經(jīng)抽真空處理后,位于外腔體10中的工件再經(jīng)自動(dòng)門(mén)23進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔20中進(jìn)行工藝反應(yīng),可以有效避免設(shè)備雜質(zhì)和工件雜質(zhì)進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔20中。該結(jié)構(gòu)可以避免工藝環(huán)境外的污染源進(jìn)入工藝反應(yīng)區(qū)域。寶來(lái)利真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,五金制品鍍膜,有需要可以咨詢(xún)!

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影響工作效率的問(wèn)題。為實(shí)現(xiàn)以上目的,本實(shí)用新型通過(guò)以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn):一種高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備,包括腔體、基板和坩堝,所述腔體底部的四角均固定連接有支撐腿,并且腔體的正面轉(zhuǎn)動(dòng)連接有密封門(mén),所述腔體內(nèi)壁兩側(cè)之間的底部固定連接有支撐板,并且支撐板的頂部固定連接有防護(hù)框,所述防護(hù)框內(nèi)壁的兩側(cè)均固定連接有寶來(lái)利真空滑軌,并且兩個(gè)寶來(lái)利真空滑軌相對(duì)的一側(cè)之間滑動(dòng)連接有活動(dòng)板,所述腔體內(nèi)壁的底部固定連接有寶來(lái)利真空伸縮桿,所述寶來(lái)利真空伸縮桿的頂端貫穿支撐板和防護(hù)框并延伸至防護(hù)框的內(nèi)部,所述寶來(lái)利真空伸縮桿輸出軸的一端且位于防護(hù)框的內(nèi)部與活動(dòng)板的底部固定連接,所述腔體內(nèi)壁的兩側(cè)均固定連接有第二伸縮桿,所述防護(hù)框頂部的兩側(cè)分別滑動(dòng)連接有寶來(lái)利真空密封蓋和第二密封蓋,并且寶來(lái)利真空密封蓋和第二密封蓋相背離的一側(cè)分別與兩個(gè)第二伸縮桿的輸出軸固定連接。推薦的,所述活動(dòng)板的頂部固定連接有加熱板,所述防護(hù)框內(nèi)壁的底部且位于寶來(lái)利真空伸縮桿的表面固定連接有降溫板。推薦的,所述腔體左側(cè)的頂部固定連接有電機(jī),并且電機(jī)輸出軸的一端固定連接有雙向螺紋桿。推薦的。寶來(lái)利飛機(jī)葉片真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,細(xì)膩有光澤,有需要可以來(lái)咨詢(xún)!汽車(chē)零部件真空鍍膜機(jī)

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本實(shí)用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備。背景技術(shù):真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法,例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等,真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面,它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ),利用物理或化學(xué)方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù),為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝,簡(jiǎn)單地說(shuō),在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射,使其在被涂覆的物體(稱(chēng)基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法,稱(chēng)為真空鍍膜。現(xiàn)有的真空鍍膜設(shè)備雖然能夠完成鍍膜的工作,但是當(dāng)鍍膜公祖完成后,由于腔體內(nèi)部仍然處于真空狀態(tài),與外界環(huán)境具有一定的壓強(qiáng)差,若過(guò)早打開(kāi)密封門(mén),坩堝溫度依然很高,鍍膜材料容易發(fā)生噴濺,造成危險(xiǎn),若等坩堝降溫后再打開(kāi)密封門(mén),會(huì)耗費(fèi)較多的時(shí)間,影響工作效率。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,本實(shí)用新型提供了一種高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備,解決了若過(guò)早打開(kāi)密封門(mén),鍍膜材料容易發(fā)生噴濺,造成危險(xiǎn),若等坩堝降溫后再打開(kāi)密封門(mén),會(huì)耗費(fèi)較多的時(shí)間。汽車(chē)車(chē)燈真空鍍膜機(jī)工廠(chǎng)直銷(xiāo)

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