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上海真空鍍鉻真空鍍膜機(jī)

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-08-18

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本實(shí)用新型涉及真空鍍膜機(jī)技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種磁控濺射真空鍍膜機(jī)。背景技術(shù):真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材,基片與靶材同在真空腔中,濺射類鍍膜,可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且**終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)),**終形成薄膜。目前市場(chǎng)上類似的磁控濺射真空鍍膜機(jī)在長(zhǎng)時(shí)間使用后,會(huì)在鍍膜機(jī)腔體的內(nèi)壁粘黏有靶材和雜質(zhì),通常需要裝卸內(nèi)部的轉(zhuǎn)動(dòng)架,用人工的方式對(duì)腔體內(nèi)壁進(jìn)行定時(shí)維護(hù),手動(dòng)清理擦拭,費(fèi)時(shí)費(fèi)力,清理效率低,為了解決上述問題,我們提出一種磁控濺射真空鍍膜機(jī)。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本實(shí)用新型的目的在于提供一種磁控濺射真空鍍膜機(jī),以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種磁控濺射真空鍍膜機(jī),包括控制箱,所述控制箱的上表面后側(cè)固定安裝后罐體,所述后罐體的前表面鉸接有前罐體,所述后罐體的前表面上側(cè)固定安裝有驅(qū)動(dòng)裝置,所述驅(qū)動(dòng)裝置,所述驅(qū)動(dòng)裝置的下側(cè)安裝有清理裝置,所述清理裝置包括u形架。

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因此可以有效減少工藝原料的浪費(fèi),降低原料的使用成本,提高原料的利用率。同時(shí),由于工藝反應(yīng)區(qū)的減少,可以有效控制該區(qū)域內(nèi)的溫度,使該區(qū)域內(nèi)的工藝溫度更易于均勻化,進(jìn)而提高工藝質(zhì)量。附圖說明此處的附圖被并入說明書中并構(gòu)成本說明書的一部分,示出了符合本實(shí)用新型的實(shí)施例,并與說明書一起用于解釋本實(shí)用新型的原理。為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的真空反應(yīng)腔室的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為圖1所示結(jié)構(gòu)中的剖視結(jié)構(gòu)示意圖;圖3為設(shè)置于第二底板底部的溫控管的結(jié)構(gòu)示意圖。圖標(biāo):10-外腔體;11-寶來利真空底板;12-寶來利真空側(cè)壁;13-傳送裝置;20-內(nèi)反應(yīng)腔;21-第二底板;22-第二側(cè)壁;23-自動(dòng)門;30-密封蓋板;40-溫控管;41-恒溫控制器。具體實(shí)施方式為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和***更加清楚,下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然。寶來利晶圓真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,細(xì)膩有光澤,有需要可以來咨詢!江蘇汽車格柵真空鍍膜機(jī)推薦貨源

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以及位于所述外腔體內(nèi)的用于進(jìn)行工藝反應(yīng)的內(nèi)反應(yīng)腔;所述內(nèi)反應(yīng)腔的側(cè)壁上設(shè)有自動(dòng)門,所述自動(dòng)門連接自動(dòng)門控制器,工件自所述外腔體經(jīng)所述自動(dòng)門進(jìn)入所述內(nèi)反應(yīng)腔中。進(jìn)一步地,所述外腔體包括寶來利真空底板和沿所述寶來利真空底板周向設(shè)置的寶來利真空側(cè)壁;所述內(nèi)反應(yīng)腔包括第二底板和沿所述第二底板周向設(shè)置的第二側(cè)壁;所述寶來利真空底板與所述第二底板相互分離設(shè)置,所述寶來利真空側(cè)壁與所述第二側(cè)壁相互分離設(shè)置;所述寶來利真空側(cè)壁與蓋設(shè)于所述寶來利真空側(cè)壁上的密封蓋板密閉連接,所述第二側(cè)壁與所述密封蓋板相互分離設(shè)置。進(jìn)一步地,所述自動(dòng)門設(shè)置于所述第二側(cè)壁上,所述外腔體內(nèi)設(shè)有傳送裝置,所述工件自所述傳送裝置經(jīng)所述自動(dòng)門傳遞至所述內(nèi)反應(yīng)腔中。進(jìn)一步地,所述第二底板和/或所述第二側(cè)壁上設(shè)有用于對(duì)所述內(nèi)反應(yīng)腔進(jìn)行控溫的溫控裝置。進(jìn)一步地,所述溫控裝置包括溫控管,所述溫控管連接位于外腔體外的恒溫控制器。進(jìn)一步地,所述溫控管包括加熱管和/或冷卻管。進(jìn)一步地,所述加熱管包括電加熱管、水加熱管或油加熱管;所述冷卻管包括水冷卻管或油冷卻管。進(jìn)一步地,所述溫控管纏繞于所述第二側(cè)壁的外部,且所述溫控管鋪設(shè)于所述第二底板的底部。上海真空鍍鉻真空鍍膜機(jī)

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