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碳化硅膜厚儀干涉測量應用

來源: 發(fā)布時間:2023-02-03

F40系列將您的顯微鏡變成薄膜測量工具F40產(chǎn)品系列用于測量小到1微米的光斑。對大多數(shù)顯微鏡而言,F(xiàn)40能簡單地固定在c型轉(zhuǎn)接器上,這樣的轉(zhuǎn)接器是顯微鏡行業(yè)標準配件。F40配備的集成彩色攝像機,能夠?qū)y量點進行準確監(jiān)控。在1秒鐘之內(nèi)就能測定厚度和折射率。像我們所有的臺式儀器一樣,F(xiàn)40需要連接到您裝有Windows計算機的USB端口上并在數(shù)分鐘內(nèi)完成設(shè)定。F40:20nm-40μm400-850nmF40-EXR:20nm-120μm400-1700nmF40-NIR:40nm-120μm950-1700nmF40-UV:4nm-40μm190-1100nmF40-UVX:4nm-120μm190-1700nm當測量斑點只有1微米(μm)時,需要用您自己的顯微鏡或者用我們提供的整個系統(tǒng)。碳化硅膜厚儀干涉測量應用

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FSM360拉曼光譜系統(tǒng)FSM紫外光和可見光拉曼系統(tǒng),型號360FSM拉曼的應用l局部應力;l局部化學成分l局部損傷紫外光可測試的深度優(yōu)袖的薄膜(SOI或Si-SiGe)或者厚樣的近表面局部應力可見光可測試的深度良好的厚樣以及多層樣品的局部應力系統(tǒng)測試應力的精度小于15mpa(0.03cm-1)全自動的200mm和300mm硅片檢查自動檢驗和聚焦的能力。以上的信息比較有限,如果您有更加詳細的技術(shù)問題,請聯(lián)系我們的技術(shù)人員為您解答。或者訪問我們的官網(wǎng)了解更多信息。掩模對準膜厚儀可以試用嗎FSM拉曼的應用:局部應力; 局部化學成分;局部損傷。

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接觸探頭測量彎曲和難測的表面CP-1-1.3測量平面或球形樣品,結(jié)實耐用的不銹鋼單線圈。CP-1-AR-1.3可以抑制背面反射,對1.5mm厚的基板可抑制96%。鋼制單線圈外加PVC涂層,蕞大可測厚度15um。CP-2-1.3用于探入更小的凹表面,直徑17.5mm。CP-C6-1.3探測直徑小至6mm的圓柱形和球形樣品外側(cè)。CP-C12-1.3用于直徑小至12mm圓柱形和球形樣品外側(cè)。CP-C26-1.3用于直徑小至26mm圓柱形和球形樣品外側(cè)。CP-BendingRod-L350-2彎曲長度300mm,總長度350mm的接觸探頭。用于難以到達的區(qū)域,但不會自動對準表面。CP-ID-0to90Deg-2用于食品和飲料罐頭內(nèi)壁的接觸探頭。CP-RA-3mmDia-200mmL-2直徑蕞小的接觸探頭,配備微型直角反射鏡,用來測量小至直徑3mm管子的內(nèi)壁,不能自動對準表面。CP-RA-10mmHigh-2配備微型直角反射鏡,可以在相隔10mm的兩個平坦表面之間去進行測量。

  F20系列是世界上蕞**的臺式薄膜厚度測量系統(tǒng),只需按下一個按鈕,不到一秒鐘即可同時測量厚度和折射率。設(shè)置也非常簡單,只需把設(shè)備連接到您運行Windows?系統(tǒng)的計算機USB端口,并連接樣品平臺就可以了。F20系列不同型號的選擇,主要取決于您需要測量的薄膜厚度(確定所需的波長范圍)。型號厚度范圍*波長范圍F2015nm-70μm380-1050nmF20-EXR15nm-250μm380-1700nmF20-NIR100nm-250μm950-1700nmF20-UV1nm-40μm190-1100nmF20-UVX1nm-250μm190-1700nmF20-XTμm-450μm1440-1690nm*取決于薄膜種類Filmetrics膜厚測試儀通過分析薄膜的反射光譜來測量薄膜的厚度,通過非可見光的測量,可以測量薄至1nm或厚至13mm的薄膜。測量結(jié)果可在幾秒鐘顯示:薄膜厚度、顏色、折射率甚至是表面粗糙度。1.有五種不同波長選擇(波長范圍從紫外220nm至近紅外1700nm)2.蕞大樣品薄膜厚度的測量范圍是:3nm~25um3.精度高于、氧化物、氮化物;、Polyimides;3.光電鍍膜應用:硬化膜、抗反射膜、濾波片。1.光源有壽命,不用時請關(guān)閉2.光纖易損,不要彎折,不要頻繁插拔3.精密儀器??蛇x粗糙度: 20 — 1000? (RMS)。

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FSM413紅外干涉測量設(shè)備關(guān)鍵詞:厚度測量,光學測厚,非接觸式厚度測量,硅片厚度,氮化硅厚度,激光測厚,近紅外光測厚,TSV,CD,Trench,砷化鎵厚度,磷化銦厚度,玻璃厚度測量,石英厚度,聚合物厚度,背磨厚度,上下兩個測試頭。Michaelson干涉法,翹曲變形。如果您對該產(chǎn)品感興趣的話,可以給我留言!產(chǎn)品名稱:紅外干涉厚度測量設(shè)備·產(chǎn)品型號:FSM413EC,FSM413MOT,F(xiàn)SM413SADP,F(xiàn)SM413C2C,FSM8108VITEC2C如果您需要更多的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器。 Filmetrics 提供一系列的和測繪系統(tǒng)來測量 3nm 到 1mm 的單層、 多層、 以及單獨的光刻膠薄膜。臺積電膜厚儀測樣

可選的厚度和折射率模塊讓您能夠充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。碳化硅膜厚儀干涉測量應用

不管您參與對顯示器的基礎(chǔ)研究還是制造,F(xiàn)ilmetrics都能夠提供您所需要的...測量液晶層-聚酰亞胺、硬涂層、液晶、間隙測量有機發(fā)光二極管層-發(fā)光、電注入、緩沖墊、封裝對于空白樣品,我們建議使用F20系列儀器。對于圖案片,F(xiàn)ilmetrics的F40用于測量薄膜厚度已經(jīng)找到了顯示器應用廣范使用。測量范例此案例中,我們成功地測量了藍寶石和硼硅玻璃基底上銦錫氧化物薄膜厚度。與Filmetrics專有的ITO擴散模型結(jié)合的F10-RTA-EXR儀器,可以很容易地在380納米到1700納米內(nèi)同時測量透射率和反射率以確定厚度,折射率,消光系數(shù)。由于ITO薄膜在各種基底上不同尋常的的擴散,這個擴展的波長范圍是必要的。碳化硅膜厚儀干涉測量應用

岱美儀器技術(shù)服務(上海)有限公司是一家集生產(chǎn)科研、加工、銷售為一體的****,公司成立于2002-02-07,位于金高路2216弄35號6幢306-308室。公司誠實守信,真誠為客戶提供服務。公司主要經(jīng)營半導體工藝設(shè)備,半導體測量設(shè)備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀,公司與半導體工藝設(shè)備,半導體測量設(shè)備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀行業(yè)內(nèi)多家研究中心、機構(gòu)保持合作關(guān)系,共同交流、探討技術(shù)更新。通過科學管理、產(chǎn)品研發(fā)來提高公司競爭力。EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB,ThetaMetrisi嚴格按照行業(yè)標準進行生產(chǎn)研發(fā),產(chǎn)品在按照行業(yè)標準測試完成后,通過質(zhì)檢部門檢測后推出。我們通過全新的管理模式和周到的服務,用心服務于客戶。岱美儀器技術(shù)服務(上海)有限公司以誠信為原則,以安全、便利為基礎(chǔ),以優(yōu)惠價格為半導體工藝設(shè)備,半導體測量設(shè)備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀的客戶提供貼心服務,努力贏得客戶的認可和支持,歡迎新老客戶來我們公司參觀。

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